光刻

厦门今年最大IPO诞生

今日(11月18日)厦门恒坤新材料科技股份有限公司(下称“恒坤新材”)正式登陆科创板,此次IPO发行价为14.99元/股,开盘大涨287%,市值一度超过280亿元,一举成为厦门今年最大IPO。

厦门 光刻 集成电路 ipo 恒坤 2025-11-18 15:52  2

280亿,厦门超级IPO诞生

今日(11月18日)厦门恒坤新材料科技股份有限公司(下称“恒坤新材”)正式登陆科创板,此次IPO发行价为14.99元/股,开盘大涨287%,市值一度超过280亿元,一举成为厦门今年最大IPO。

厦门 光刻 集成电路 ipo 恒坤 2025-11-18 11:42  2

蚀刻加工在精密制造中的应用与技术特点

蚀刻加工是一种利用化学反应或电化学反应,对金属材料进行局部去除的微细加工技术。它以光刻技术为基础,通过在金属表面形成耐蚀图案,再利用化学溶液腐蚀未被保护的区域,从而获得所需结构。由于加工过程中没有机械应力影响,该工艺非常适合薄片金属、微孔结构以及复杂形状的批量

应用 技术 光刻 艾格斯 蚀刻 2025-11-15 18:31  2

对话半导体光刻专家庞琳勇博士:全芯片ILT是半导体向下迭代的关键技术

在半导体制造领域,光刻技术是实现集成电路图案转移的关键工艺。随着摩尔定律的持续推进,芯片图形特征尺寸不断缩小,光刻技术正面临着前所未有的挑战。其中,光学邻近效应导致晶圆上的光刻图形与掩模设计图形产生偏差,这使得基于计算光刻技术对掩模进行修正(OPC)以减弱光学

半导体 光刻 半导体光刻 ilt 庞琳 2025-11-01 02:13  3

对话光刻专家庞琳勇博士:全芯片ILT是半导体向下迭代的关键技术

在半导体制造领域,光刻技术是实现集成电路图案转移的关键工艺。随着摩尔定律的持续推进,芯片图形特征尺寸不断缩小,光刻技术正面临着前所未有的挑战。其中,光学邻近效应导致晶圆上的光刻图形与掩模设计图形产生偏差,这使得基于计算光刻技术对掩模进行修正(OPC)以减弱光学

芯片 半导体 光刻 ilt 庞琳 2025-10-31 18:14  4

70亿!光刻机新独角兽诞生,是颠覆者还是“纸上谈兵”?

在半导体产业的宏大版图中,光刻机与晶圆厂无疑是两大核心支柱,而ASML和台积电则如同两座难以撼动的巨擘,分别统治着光刻机与晶圆厂领域。然而,近日一家名为Substrate的美国芯片设备创企横空出世,以70亿人民币估值成为新晋半导体独角兽,并放出豪言要挑战这两大

独角兽 asml 光刻 光刻机 颠覆者 2025-10-31 14:33  2

比EUV更强,又有公司开始研发X光刻机了?

当地时间10月28日,美国新创光刻设备厂商Substrate宣布,他们已开发出一款全新的光刻机,有能力与全球光刻机龙头大厂——荷兰ASML最先进的每台售价接近4亿美元的High NA EUV光刻机竞争。他们的终极目标是在美国建立晶圆代工业务,挑战台积电的地位,

asml 光刻 x光 光刻机 euv 2025-10-30 13:36  1